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从示意图中，我们已经可以大致分析出MX1000的引擎工作原理了。 由示意图来看，MX1000的光源的确是激光没错，估计应该是激光集成电路模块。而它所根据的原理，其实还是CMOS成像原理，而非“激光”这个名词容易让人想到的激光定位或激光干涉原理。 但是，由示意图可以看出来，MX1000的CMOS以及成像镜头的位置与传统光电引擎完全不同了。实际上，很明显，它由漫反射成像变成了镜面反射成像。 这也就可以解释为什么MX1000需要使用激光作为光源。我们首先要明白激光是什么？——激光，并不是科幻电影里的“死光”，虽然那的确是激光的一种即高能激光。激光，本质上是工质在受外界强大能量注入刺激下，工质原子内层电子规则跃迁而产生的光线，由于它不是热运动产生的光线，所以其波长、相位、方向具有高度的一致性。而正因为这种波长、相位、方向的高度一致性，所以激光才会表现出不同于普通光的高能、强干涉、高度集中的性能。而“激光”这个名字，实际上就是“受激发光”的意思。 如果要使用镜面反射，那么由于普通的鼠标垫表面没有足够的反射率，所以普通光线会大量散射导致不能形成足够的反射强度。早期的光电鼠标之所需要反射垫，就是因为它是使用的镜面反射定位，只有高反射率的反射垫才能满足这种需要。 而在普通工作表面上使用镜面反射定位，那么就只有激光才能有足够高的光照强度和反射强度。这就是MX1000为什么要使用激光作为照射光的原因。 那么为什么MX1000要使用镜面反射定位而不使用传统的漫反射定位呢？这点我们可以从上面的原理图里的成像示意图看出来—— 之所以使用镜面反射，本质上还是为了提高鼠标的精度和对工作表面的适应性。传统的光电引擎，由于使用的是漫反射原理，所以绝大部分的照射光都散射了，只有少部分被成像镜头捕捉。所成的像是模糊不清的。虽然通过光电系统的改善以及DSP算法的更新，可以尽量提升它的定位能力，但到了1000CPI也就差不多了。而特别是这种工作原理决定了它对工作表面的适应性还是有限的——在镜面或透明玻璃上，始终没有什么光电鼠标能用。 而使用激光镜面反射就不同。由于激光中绝大部分都被工作表面完成了镜面反射，所以成像光强度非常高，而且高纯度的激光在工作表面上形成的反差远比漫反射强烈——在较为光滑的地方，激光被强烈反射，而在较为粗糙的地方，激光则被强烈吸收，从而在成像上形成强烈的光强度对比。 所有提升引擎性能的方法，本质上都是在提升引擎的工作速度和成像清晰度。而MX1000使用激光镜面反射的工作原理，正是将后者提升到了一个不同的层次上。单就原理而言，如果说MX1000的引擎会超过MX700 20倍，我相信是完全做得到的。 MX1000采取的这样的设计，对于它的移动性能并没有什么帮助，我相信它主要是提高了鼠标的定位能力。鼠标定位能力的提升会带来两个好处——一是提升鼠标的CPI，但目前没有MX1000的CPI的资料，而且我想这也没有什么实际价值，毕竟1000CPI已经是几乎没有人会用得上的了。而提升定位能力的第二个好处比较实在，就是提升光电鼠标的工作表面适应能力。毕竟在这一点上，最新的MX510也做得不完美，虽然它在其它方面都已经非常好了。 而如果MX1000真的可以在镜子上使用的话，那么显然这种提升在发挥作用了。 不过到目前为止，我还有几个问题没有弄清——首先，MX1000的设计大大提高了CMOS成像的细节清晰度，但是这就对于DSP的处理能力提出了远远比过去高得多的要求，而且更高的定位能力也需要更快的扫描速度与之对应，而在这方面，目前还缺乏足够的资料。其次，激光设计和传统的红色散射光设计不同，激光对人眼是有害的。罗技究竟对此做了什么保护措施没有？从MX1000的充电器设计可以看出它为了在充电式不会造成激光外设，而增加了MX700和MX900都没有的挡板。但使用中呢？这些，恐怕只有MX1000在国内上市我们才能弄得清了。 事实上，以上的全部分析，也只不过是根据一张示意图而做的猜测，真正的分析，依然要等到我们自己拿到这款产品才能得出。毕竟只有实践的结果才是唯一真实的。 作者的话：这里面的分析只是我根据包装文字作出的初步猜测，罗技公布的资料太少，9月2日才在日本网站上公布了一些引擎的参数。（出处：http://www.sheup.com）